Анодные и катодные поляризационные кривые КСПК

   Пример поляризационных кривых - графиков зависимости контактной разности потенциалов от силы пропускаемого тока на примере графита, пирита и галенита.

   В методе КСПК возбуждаются и анализируются электрохимические реакции на минералах рудного тела путем:

1) создания электрической цепи, содержащей рудное тело - в скважине заземляется электрод А электрод В относится в "бесконечность".

2) пропускания в содержащей рудное тело электрической цепи постепенно нарастающего постоянного электрического тока. Важным параметром является скорость нарастания тока (0.01-0.1 мА/с).

3) под действием этого тока в рудном теле создается изменяющийся при росте тока положительный или отрицательный потенциал – в зависимости от полярности тока в цепи. Для разных минералов вид получаемой поляризационной кривой (I=I(U)) и потенциалы реакций отличаются. С объемом, а точнее, с площадью поверхности рудного тела связана высота "ступени", т.е. сила тока. Высота и положение ступени на графике анализируется и делается вывод о составе и содержании рудных компонент в породе.

   Ступени поляризационной кривой формируются следующим образом: когда значение потенциала, растущего при росте тока достигает величины, равной потенциалу реакции на  минерале, присутствующем в рудном теле, в нем начинает протекать электрохимическая реакция за счет ионов этого минерала. Нарастающий ток поддерживает протекание этой реакции до тех пор, пока не прореагируют ионы данного минерала, при этом роста потенциала почти не наблюдается или он очень мал - это субвертикальная часть ступени. Затем рост тока "приостанавливается", а растет потенциал до величины потенциала, характерной для других ионов или минералов рудного тела - это субгоризонтальная часть ступени.  Далее формируется следующая ступень аналогичным образом. Для одного минерала может быть характерно несколько ступеней (закрашенные ячейки - типичные потенциалы, "пустые" - редко, штриховые - очень редко встречающиеся, наличие их в значительной степени зависит от состава растворов):

По материалам В.В. Семенова, Ю.С. Рысса.